Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document :
http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008
| Titre: | Вплив енергетичного положення електронних станів межі поділу контактів дисиліцид металу - n-кремній на стабільність параметрів вoльт-амперних характеристик |
| Autre(s) titre(s): | Influence of the electronic states of the division line on the parameters hetero-structures MoSi(2)-n-Si and WSi(2)-n-Si of volt-ampere characteristics electric charge |
| Auteur(s): | Ільченко, Василь Васильович Лісняк, Павло Григорович Гуль, Руслан Володимирович |
| Date de publication: | 2011 |
| Date of entry: | 10-mai-2011 |
| Editeur: | Тернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюя |
| Place of the edition/event: | Тернопіль, Україна |
| UDC: | 621.382 |
| Mots-clés: | гетероструктури бар’єр Шоттки вольт-амперна характеристика |
| Résumé: | The work investigates the influence of the electronic states of the division line on the parameters of volt-ampere characteristics. It has been ascertained that the parameters of volt-ampere characteristics change under the action of reverse tension of certain duration and amplitude only in those contact structures which have empty electronic state close to Fermi level on the division line of metal-n-silicium. The mechanism of transfer of electric charge does not depend on the action of impulse and power of the current which goes through the division line is defined through the electronic states of the division lineю |
| URI/URL: | http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008 |
| Content type: | Preprint |
| Collection(s) : | Ⅰ науково-технічна конференція „Інформаційні моделі, системи та технології“ (2011) |
Fichier(s) constituant ce document :
| Fichier | Description | Taille | Format | |
|---|---|---|---|---|
| gul.pdf | 224,89 kB | Adobe PDF | Voir/Ouvrir | |
| gul.djvu | 14,36 kB | DjVu | Voir/Ouvrir | |
| gul__COVER.png | 162,82 kB | image/png | Voir/Ouvrir |
Tous les documents dans DSpace sont protégés par copyright, avec tous droits réservés.