Por favor use este identificador para citas ou ligazóns a este item: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008

Título: Вплив енергетичного положення електронних станів межі поділу контактів дисиліцид металу - n-кремній на стабільність параметрів вoльт-амперних характеристик
Outros títulos: Influence of the electronic states of the division line on the parameters hetero-structures MoSi(2)-n-Si and WSi(2)-n-Si of volt-ampere characteristics electric charge
Authors: Ільченко, Василь Васильович
Лісняк, Павло Григорович
Гуль, Руслан Володимирович
Data de edición: 2011
Date of entry: 10-May-2011
Editor: Тернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюя
Place of the edition/event: Тернопіль, Україна
UDC: 621.382
Palabras chave: гетероструктури
бар’єр Шоттки
вольт-амперна характеристика
Resumo: The work investigates the influence of the electronic states of the division line on the parameters of volt-ampere characteristics. It has been ascertained that the parameters of volt-ampere characteristics change under the action of reverse tension of certain duration and amplitude only in those contact structures which have empty electronic state close to Fermi level on the division line of metal-n-silicium. The mechanism of transfer of electric charge does not depend on the action of impulse and power of the current which goes through the division line is defined through the electronic states of the division lineю
URI: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008
Content type: Preprint
Aparece nas ColecciónsⅠ науково-технічна конференція „Інформаційні моделі, системи та технології“ (2011)

Arquivos neste item
Arquivo Descrición TamañoFormato 
gul.pdf224,89 kBAdobe PDFVer/abrir
gul.djvu14,36 kBDjVuVer/abrir
gul__COVER.png162,82 kBimage/pngVer/abrir


Todos os documentos en Dspace estan protexidos por copyright, con todos os dereitos reservados