Defnyddiwch y dynodwr hwn i ddyfynnu neu i gysylltu â'r eitem hon: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008

Teitl: Вплив енергетичного положення електронних станів межі поділу контактів дисиліцид металу - n-кремній на стабільність параметрів вoльт-амперних характеристик
Teitlau Eraill: Influence of the electronic states of the division line on the parameters hetero-structures MoSi(2)-n-Si and WSi(2)-n-Si of volt-ampere characteristics electric charge
Awduron: Ільченко, Василь Васильович
Лісняк, Павло Григорович
Гуль, Руслан Володимирович
Dyddiad Cyhoeddi: 2011
Date of entry: 10-May-2011
Cyhoeddwr: Тернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюя
Place of the edition/event: Тернопіль, Україна
UDC: 621.382
Allweddeiriau: гетероструктури
бар’єр Шоттки
вольт-амперна характеристика
Crynodeb: The work investigates the influence of the electronic states of the division line on the parameters of volt-ampere characteristics. It has been ascertained that the parameters of volt-ampere characteristics change under the action of reverse tension of certain duration and amplitude only in those contact structures which have empty electronic state close to Fermi level on the division line of metal-n-silicium. The mechanism of transfer of electric charge does not depend on the action of impulse and power of the current which goes through the division line is defined through the electronic states of the division lineю
URI: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/1008
Content type: Preprint
Ymddengys yng Nghasgliadau:Ⅰ науково-технічна конференція „Інформаційні моделі, системи та технології“ (2011)

Ffeiliau yn yr Eitem Hon:
Ffeil Disgrifiad MaintFformat 
gul.pdf224,89 kBAdobe PDFGweld/Agor
gul.djvu14,36 kBDjVuGweld/Agor
gul__COVER.png162,82 kBimage/pngGweld/Agor


Diogelir eitemau yn DSpace gan hawlfraint, a chedwir pob hawl, onibai y nodir fel arall.