Utilize este identificador para referenciar este registo:
http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/18662
Título: | Перспективи використання плазмових покриттів з ультра- та нанодисперсними складовими |
Outros títulos: | The prospect of using plasma spray coatings with ultra and nanosized components |
Autor: | Сєліверстова, Ю. І. Сєліверстов, І. А. Seliverstova, J. I. Seliverstov, I. A. |
Affiliation: | Херсонський національний технічний університет, Україна |
Bibliographic description (Ukraine): | Сєліверстова Ю. І. Перспективи використання плазмових покриттів з ультра- та нанодисперсними складовими / Ю. І. Сєліверстова, І. А. Сєліверстов // Збірник тез доповідей Ⅴ Міжнародної науково-технічної конференції молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“, 17-18 листопада 2016 року — Т. : ТНТУ, 2016 — Том I. — С. 50-51. — (Нові матеріали, міцність і довговічність елементів конструкцій). |
Bibliographic description (International): | Seliverstova J. I., Seliverstov I. A. (2016) Perspektyvy vykorystannia plazmovykh pokryttiv z ultra- ta nanodyspersnymy skladovymy [The prospect of using plasma spray coatings with ultra and nanosized components]. Book of abstract the Ⅴ International scientific and technical conference of young researchers and students "Current issues in modern technologies" (Tern., 17-18 November 2016), vol. I, pp. 50-51 [in Ukrainian]. |
Is part of: | Матеріали Ⅴ Міжнародної науково-технічної конференції молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ Materials of Ⅴ International scientific and technical conference of young researchers and students "Actual problems of modern technologies" |
Conference/Event: | Ⅴ Міжнародна науково-практична конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ |
Journal/Collection: | Матеріали Ⅴ Міжнародної науково-технічної конференції молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ |
Volume: | I |
Data: | 17-Nov-2016 |
Date of entry: | 25-Jan-2017 |
Editora: | ТНТУ TNTU |
Place of the edition/event: | Україна, Тернопіль Ukraine, Ternopil |
Temporal Coverage: | 17-18 листопада 2016 року 17-18 November 2016 |
UDC: | 621.793.74 |
Number of pages: | 2 |
Page range: | 50-51 |
Start page: | 50 |
End page: | 51 |
URI: | http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/18662 |
Copyright owner: | © Тернопільський національний технічний університет імені Івана Пулюя, 2016 |
References (Ukraine): | 1. Получение порошков для газотермических покрытий методами механического легирования и механохимического синтеза/ Ю.С. Борисов, А.Л. Борисова, Л.И. Адеева, А.Ю. Туник, А.Н. Бурлаченко, В.Л. Рупчев // Сварочное производство. –2010. –№ 12. – С.18-22; 2. Повышение износостойкости плазменных покрытий на основе композиционного порошка с наночастицами SiO2/ И.В. Смирнов,И.А. Селиверстов, О.А Войтович, А.В.Чорный, В.И. Копылов // Вестник национального технического университета «ХПИ». — 2011. — № 2. — С. 70 —74. 3. Schmid G.H.S. A method for uniformly coating powdery substrates by magnetron sputtering / G.H.S. Schmid, C. Eisenmenger-Sittner // Surface & Coatings Technology 236 (2013) 353–360; 4. Khoroshikh V.M. Influence of substrate geometry on ion-plasma coating deposition process/ V.M. Khoroshikh, S.A. Leonov, V.A. Belous // International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum - ISDEIV.– 2008, Vol. 2.– P. 589 – 592. 5. Копилов В.І. Процеси іонно-плазмового плакування порошків для газотермічних покриттів / В.І. Копилов, І.В. Смирнов, І.А. Сєліверстов // Наукові вісті НТУУ „КПІ”. – 2009. – №3. – С.11-20; 6. Смирнов И.В. Формирование плазменных покрытий при использовании плакированных и ультрадисперсных керамических порошков // Вісник НТУУ «Машинобудування. – 2011.–№61.–С.117–1. 7. Пат. № 89851 України, МПК (2014) В22F1/00 Пристрій для плакування порошків у вакуумі / Смирнов І.В., Селіверстов І.А., Чорний А.В., Ковальчук В.Ю.; заявл. 31.12.2013; опубл. 25.04.2014, Бюл.№8. |
References (International): | 1. Poluchenie poroshkov dlia hazotermicheskikh pokrytii metodami mekhanicheskoho lehirovaniia i mekhanokhimicheskoho sinteza/ Iu.S. Borisov, A.L. Borisova, L.I. Adeeva, A.Iu. Tunik, A.N. Burlachenko, V.L. Rupchev, Svarochnoe proizvodstvo. –2010. –No 12, P.18-22; 2. Povyshenie iznosostoikosti plazmennykh pokrytii na osnove kompozitsionnoho poroshka s nanochastitsami SiO2/ I.V. Smirnov,I.A. Seliverstov, O.A Voitovich, A.V.Chornyi, V.I. Kopylov, Vestnik natsionalnoho tekhnicheskoho universiteta "KhPI", 2011, No 2, P. 70 -74. 3. Schmid G.H.S. A method for uniformly coating powdery substrates by magnetron sputtering, G.H.S. Schmid, C. Eisenmenger-Sittner, Surface & Coatings Technology 236 (2013) 353–360; 4. Khoroshikh V.M. Influence of substrate geometry on ion-plasma coating deposition process/ V.M. Khoroshikh, S.A. Leonov, V.A. Belous, International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum - ISDEIV, 2008, Vol. 2, P. 589 – 592. 5. Kopylov V.I. Protsesy ionno-plazmovoho plakuvannia poroshkiv dlia hazotermichnykh pokryttiv, V.I. Kopylov, I.V. Smyrnov, I.A. Sieliverstov, Naukovi visti NTUU "KPI", 2009, No 3, P.11-20; 6. Smirnov I.V. Formirovanie plazmennykh pokrytii pri ispolzovanii plakirovannykh i ultradispersnykh keramicheskikh poroshkov, Visnik NTUU "Mashinobuduvannia, 2011.–No 61.–P.117–1. 7. Pat. No 89851 Ukrainy, MPK (2014) V22F1/00 Prystrii dlia plakuvannia poroshkiv u vakuumi, Smyrnov I.V., Seliverstov I.A., Chornyi A.V., Kovalchuk V.Yu.; Decl. 31.12.2013; Publ. 25.04.2014, Bull.No 8. |
Content type: | Article |
Aparece nas colecções: | Ⅴ Міжнародна науково-технічна конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ (2016) |
Ficheiros deste registo:
Ficheiro | Descrição | Tamanho | Formato | |
---|---|---|---|---|
ConfATMT_2016vI_Seliverstova_J_I-The_prospect_of_using_50-51.pdf | 328,04 kB | Adobe PDF | Ver/Abrir | |
ConfATMT_2016vI_Seliverstova_J_I-The_prospect_of_using_50-51.djvu | 33,96 kB | DjVu | Ver/Abrir | |
ConfATMT_2016vI_Seliverstova_J_I-The_prospect_of_using_50-51__COVER.jpg | 183,91 kB | JPEG | Ver/Abrir |
Todos os registos no repositório estão protegidos por leis de copyright, com todos os direitos reservados.