Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051

Назва: Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC
Інші назви: The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface
Автори: Білоус, М.
Гермаш, Л.
Дрозденко, А.
Bilous, M.
Hermash, L.
Drozdenko, A.
Приналежність: Національний технічний університет України «КПІ»
Бібліографічний опис: Білоус М. Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC / М. Білоус, Л. Гермаш, А. Дрозденко // Вісник ТДТУ. — Т. : ТДТУ, 2000. — Том 5. — № 2. — С. 108–111. — (Математичне моделювання. Фізика).
Bibliographic description: Bilous M., Hermash L., Drozdenko A. (2000) Vplyv termichnoho vidpalu na poverkhniu monokrystalu karbidu kremniiu 6H-SiC [The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface]. Scientific Journal of TSTU (Tern.), vol. 5, no 2, pp. 108-111 [in Ukrainian].
Є частиною видання: Вісник Тернопільського державного технічного університету, 2 (5), 2000
Scientific Journal of the Ternopil State Technical University, 2 (5), 2000
Журнал/збірник: Вісник Тернопільського державного технічного університету
Випуск/№ : 2
Том: 5
Дата публікації: 27-чер-2000
Дата подання: 24-тра-2000
Дата внесення: 13-тра-2023
Видавництво: ТДТУ
TSTU
Місце видання, проведення: Тернопіль
Ternopil
УДК: 621.396
Кількість сторінок: 4
Діапазон сторінок: 108-111
Початкова сторінка: 108
Кінцева сторінка: 111
Короткий огляд (реферат): За допомогою методів Оже-електронної, рентгенофотоелектронної спектроскопії, а також електроннографічного аналізу досліджено розподіл елементів за фазами і стан на поверхні й у приповерхневому шарі монокристалів карбіду кремнію 6Н-SiС. ІІоказано характер розподілу домішок кисню і вуглецю на поверхні й у приповерхневій ділянці після термічної обробки у вакуумі 2·10-3 Па. Результати можна використати у технології виготовлення мікроприладів на основі карбіду кремнію [1].
With the help of methods the Auger - electric, rontgenophotoelectronic of spectroscopy, and also electronographic of the analysis is researched allocation of units on phases and status on a surface and in skin bed of monocrystals of silicon carbide 6Н-Si. ІІ the character of allocation of impurities of Oxygenium and Carboneum on a surface and in skin site after a heat treatment in vacuo 2*10-3 Па is rendered. The outcomes can be utilised in production process of microinstruments on a base to silicon carbide [1].
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051
ISSN: 1727-7108
Власник авторського права: © Тернопільський державний технічний університет імені Івана Пулюя, 2000
Перелік літератури: 1. Белоус М.В., Гермаш Л.П., Дрозденко О.В. Моделирование злектронных приборов и техпроцессов, обеспечение качества, надежности и радиационной стойкости приборов и аппаратуры: Сборник трудов (т. 1) международной научно-технической конференции.- М.,1998.- С.63-73.
2. Томас А., Карлсон. Фотоэлектронная и Оже-спектроскония. Л.: Машиностроение, 1981.
3. Бріггс Д., Сіх М.П. Аналіз поверхні методами Оже- і рентгенівської фотоелектронної спектроскопії. М.: Мир, 1987.
References: 1. Belous M.V., Hermash L.P., Drozdenko O.V. Modelirovanie zlektronnykh priborov i tekhprotsessov, obespechenie kachestva, nadezhnosti i radiatsionnoi stoikosti priborov i apparatury: Sbornik trudov (V. 1) mezhdunarodnoi nauchno-tekhnicheskoi konferentsii, M.,1998, P.63-73.
2. Tomas A., Karlson. Fotoelektronnaia i Ozhe-spektroskoniia. L., Mashinostroenie, 1981.
3. Brihhs D., Sikh M.P. Analiz poverkhni metodamy Ozhe- i renthenivskoi fotoelektronnoi spektroskopii. M., Myr, 1987.
Тип вмісту: Article
Розташовується у зібраннях:Вісник ТДТУ, 2000, том 5, № 2



Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.