Link lub cytat.
http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051
Pełny rekord metadanych
| Pole DC | Wartość | Język |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Білоус, М. | |
| dc.contributor.author | Гермаш, Л. | |
| dc.contributor.author | Дрозденко, А. | |
| dc.contributor.author | Bilous, M. | |
| dc.contributor.author | Hermash, L. | |
| dc.contributor.author | Drozdenko, A. | |
| dc.date.accessioned | 2023-05-13T08:33:42Z | - |
| dc.date.available | 2023-05-13T08:33:42Z | - |
| dc.date.created | 2000-06-27 | |
| dc.date.issued | 2000-06-27 | |
| dc.date.submitted | 2000-05-24 | |
| dc.identifier.citation | Білоус М. Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC / М. Білоус, Л. Гермаш, А. Дрозденко // Вісник ТДТУ. — Т. : ТДТУ, 2000. — Том 5. — № 2. — С. 108–111. — (Математичне моделювання. Фізика). | |
| dc.identifier.issn | 1727-7108 | |
| dc.identifier.uri | http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051 | - |
| dc.description.abstract | За допомогою методів Оже-електронної, рентгенофотоелектронної спектроскопії, а також електроннографічного аналізу досліджено розподіл елементів за фазами і стан на поверхні й у приповерхневому шарі монокристалів карбіду кремнію 6Н-SiС. ІІоказано характер розподілу домішок кисню і вуглецю на поверхні й у приповерхневій ділянці після термічної обробки у вакуумі 2·10-3 Па. Результати можна використати у технології виготовлення мікроприладів на основі карбіду кремнію [1]. | |
| dc.description.abstract | With the help of methods the Auger - electric, rontgenophotoelectronic of spectroscopy, and also electronographic of the analysis is researched allocation of units on phases and status on a surface and in skin bed of monocrystals of silicon carbide 6Н-Si. ІІ the character of allocation of impurities of Oxygenium and Carboneum on a surface and in skin site after a heat treatment in vacuo 2*10-3 Па is rendered. The outcomes can be utilised in production process of microinstruments on a base to silicon carbide [1]. | |
| dc.format.extent | 108-111 | |
| dc.language.iso | uk | |
| dc.publisher | ТДТУ | |
| dc.publisher | TSTU | |
| dc.relation.ispartof | Вісник Тернопільського державного технічного університету, 2 (5), 2000 | |
| dc.relation.ispartof | Scientific Journal of the Ternopil State Technical University, 2 (5), 2000 | |
| dc.title | Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC | |
| dc.title.alternative | The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface | |
| dc.type | Article | |
| dc.rights.holder | © Тернопільський державний технічний університет імені Івана Пулюя, 2000 | |
| dc.coverage.placename | Тернопіль | |
| dc.coverage.placename | Ternopil | |
| dc.format.pages | 4 | |
| dc.subject.udc | 621.396 | |
| dc.relation.references | 1. Белоус М.В., Гермаш Л.П., Дрозденко О.В. Моделирование злектронных приборов и техпроцессов, обеспечение качества, надежности и радиационной стойкости приборов и аппаратуры: Сборник трудов (т. 1) международной научно-технической конференции.- М.,1998.- С.63-73. | |
| dc.relation.references | 2. Томас А., Карлсон. Фотоэлектронная и Оже-спектроскония. Л.: Машиностроение, 1981. | |
| dc.relation.references | 3. Бріггс Д., Сіх М.П. Аналіз поверхні методами Оже- і рентгенівської фотоелектронної спектроскопії. М.: Мир, 1987. | |
| dc.relation.referencesen | 1. Belous M.V., Hermash L.P., Drozdenko O.V. Modelirovanie zlektronnykh priborov i tekhprotsessov, obespechenie kachestva, nadezhnosti i radiatsionnoi stoikosti priborov i apparatury: Sbornik trudov (V. 1) mezhdunarodnoi nauchno-tekhnicheskoi konferentsii, M.,1998, P.63-73. | |
| dc.relation.referencesen | 2. Tomas A., Karlson. Fotoelektronnaia i Ozhe-spektroskoniia. L., Mashinostroenie, 1981. | |
| dc.relation.referencesen | 3. Brihhs D., Sikh M.P. Analiz poverkhni metodamy Ozhe- i renthenivskoi fotoelektronnoi spektroskopii. M., Myr, 1987. | |
| dc.identifier.citationen | Bilous M., Hermash L., Drozdenko A. (2000) Vplyv termichnoho vidpalu na poverkhniu monokrystalu karbidu kremniiu 6H-SiC [The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface]. Scientific Journal of TSTU (Tern.), vol. 5, no 2, pp. 108-111 [in Ukrainian]. | |
| dc.contributor.affiliation | Національний технічний університет України «КПІ» | |
| dc.citation.journalTitle | Вісник Тернопільського державного технічного університету | |
| dc.citation.volume | 5 | |
| dc.citation.issue | 2 | |
| dc.citation.spage | 108 | |
| dc.citation.epage | 111 | |
| Występuje w kolekcjach: | Вісник ТДТУ, 2000, том 5, № 2 | |
Pliki tej pozycji:
| Plik | Opis | Wielkość | Format | |
|---|---|---|---|---|
| TSTUSJ_2000v5n2_Bilous_M-The_influence_of_the_heat_108-111.pdf | 220,83 kB | Adobe PDF | Przeglądanie/Otwarcie | |
| TSTUSJ_2000v5n2_Bilous_M-The_influence_of_the_heat_108-111.djvu | 72,79 kB | DjVu | Przeglądanie/Otwarcie | |
| TSTUSJ_2000v5n2_Bilous_M-The_influence_of_the_heat_108-111__COVER.png | 424,28 kB | image/png | Przeglądanie/Otwarcie |
Pozycje DSpace są chronione prawami autorskimi