このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051

完全メタデータレコード
DCフィールド言語
dc.contributor.authorБілоус, М.
dc.contributor.authorГермаш, Л.
dc.contributor.authorДрозденко, А.
dc.contributor.authorBilous, M.
dc.contributor.authorHermash, L.
dc.contributor.authorDrozdenko, A.
dc.date.accessioned2023-05-13T08:33:42Z-
dc.date.available2023-05-13T08:33:42Z-
dc.date.created2000-06-27
dc.date.issued2000-06-27
dc.date.submitted2000-05-24
dc.identifier.citationБілоус М. Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC / М. Білоус, Л. Гермаш, А. Дрозденко // Вісник ТДТУ. — Т. : ТДТУ, 2000. — Том 5. — № 2. — С. 108–111. — (Математичне моделювання. Фізика).
dc.identifier.issn1727-7108
dc.identifier.urihttp://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051-
dc.description.abstractЗа допомогою методів Оже-електронної, рентгенофотоелектронної спектроскопії, а також електроннографічного аналізу досліджено розподіл елементів за фазами і стан на поверхні й у приповерхневому шарі монокристалів карбіду кремнію 6Н-SiС. ІІоказано характер розподілу домішок кисню і вуглецю на поверхні й у приповерхневій ділянці після термічної обробки у вакуумі 2·10-3 Па. Результати можна використати у технології виготовлення мікроприладів на основі карбіду кремнію [1].
dc.description.abstractWith the help of methods the Auger - electric, rontgenophotoelectronic of spectroscopy, and also electronographic of the analysis is researched allocation of units on phases and status on a surface and in skin bed of monocrystals of silicon carbide 6Н-Si. ІІ the character of allocation of impurities of Oxygenium and Carboneum on a surface and in skin site after a heat treatment in vacuo 2*10-3 Па is rendered. The outcomes can be utilised in production process of microinstruments on a base to silicon carbide [1].
dc.format.extent108-111
dc.language.isouk
dc.publisherТДТУ
dc.publisherTSTU
dc.relation.ispartofВісник Тернопільського державного технічного університету, 2 (5), 2000
dc.relation.ispartofScientific Journal of the Ternopil State Technical University, 2 (5), 2000
dc.titleВплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC
dc.title.alternativeThe influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface
dc.typeArticle
dc.rights.holder© Тернопільський державний технічний університет імені Івана Пулюя, 2000
dc.coverage.placenameТернопіль
dc.coverage.placenameTernopil
dc.format.pages4
dc.subject.udc621.396
dc.relation.references1. Белоус М.В., Гермаш Л.П., Дрозденко О.В. Моделирование злектронных приборов и техпроцессов, обеспечение качества, надежности и радиационной стойкости приборов и аппаратуры: Сборник трудов (т. 1) международной научно-технической конференции.- М.,1998.- С.63-73.
dc.relation.references2. Томас А., Карлсон. Фотоэлектронная и Оже-спектроскония. Л.: Машиностроение, 1981.
dc.relation.references3. Бріггс Д., Сіх М.П. Аналіз поверхні методами Оже- і рентгенівської фотоелектронної спектроскопії. М.: Мир, 1987.
dc.relation.referencesen1. Belous M.V., Hermash L.P., Drozdenko O.V. Modelirovanie zlektronnykh priborov i tekhprotsessov, obespechenie kachestva, nadezhnosti i radiatsionnoi stoikosti priborov i apparatury: Sbornik trudov (V. 1) mezhdunarodnoi nauchno-tekhnicheskoi konferentsii, M.,1998, P.63-73.
dc.relation.referencesen2. Tomas A., Karlson. Fotoelektronnaia i Ozhe-spektroskoniia. L., Mashinostroenie, 1981.
dc.relation.referencesen3. Brihhs D., Sikh M.P. Analiz poverkhni metodamy Ozhe- i renthenivskoi fotoelektronnoi spektroskopii. M., Myr, 1987.
dc.identifier.citationenBilous M., Hermash L., Drozdenko A. (2000) Vplyv termichnoho vidpalu na poverkhniu monokrystalu karbidu kremniiu 6H-SiC [The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface]. Scientific Journal of TSTU (Tern.), vol. 5, no 2, pp. 108-111 [in Ukrainian].
dc.contributor.affiliationНаціональний технічний університет України «КПІ»
dc.citation.journalTitleВісник Тернопільського державного технічного університету
dc.citation.volume5
dc.citation.issue2
dc.citation.spage108
dc.citation.epage111
出現コレクション:Вісник ТДТУ, 2000, том 5, № 2



このリポジトリに保管されているアイテムはすべて著作権により保護されています。