Empreu aquest identificador per citar o enllaçar aquest ítem: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810

Registre complet de metadades
Camp DCValorLengua/Idioma
dc.contributor.authorДмитрієв, В.С.-
dc.contributor.authorDmitriev, V.S.-
dc.coverage.temporal11-12 грудня 2013 рокуuk
dc.date.accessioned2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.available2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.issued2013-12-12-
dc.identifier.urihttp://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810-
dc.language.isoukuk
dc.publisherТернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюяuk
dc.titleОптимізація технології вакуумного нанесення омічних контактів до арсеніду галліяuk
dc.title.alternativeThe optimization of the ohmic contacts vacuum deposition technologyat gallium arsenideuk
dc.typeArticleuk
dc.coverage.placenameТернопіль, Українаuk
dc.subject.udc621.382. 2/3uk
Apareix a les col·leccions:Міжнародна науково-практична конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ (2013)

Arxius per aquest ítem:
Arxiu Descripció MidaFormat 
13.pdf43,69 kBAdobe PDFVeure/Obrir
13.djvu16,56 kBDjVuVeure/Obrir
13__COVER.png184,15 kBimage/pngVeure/Obrir


Els ítems de DSpace es troben protegits per copyright, amb tots els drets reservats, sempre i quan no s’indiqui el contrari.