Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810

Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorДмитрієв, В.С.-
dc.contributor.authorDmitriev, V.S.-
dc.coverage.temporal11-12 грудня 2013 рокуuk
dc.date.accessioned2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.available2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.issued2013-12-12-
dc.identifier.urihttp://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810-
dc.language.isoukuk
dc.publisherТернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюяuk
dc.titleОптимізація технології вакуумного нанесення омічних контактів до арсеніду галліяuk
dc.title.alternativeThe optimization of the ohmic contacts vacuum deposition technologyat gallium arsenideuk
dc.typeArticleuk
dc.coverage.placenameТернопіль, Українаuk
dc.subject.udc621.382. 2/3uk
Розташовується у зібраннях:Міжнародна науково-практична конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ (2013)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
13.pdf43,69 kBAdobe PDFПереглянути/відкрити
13.djvu16,56 kBDjVuПереглянути/відкрити
13__COVER.png184,15 kBimage/pngПереглянути/відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.