Link lub cytat. http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810

Pełny rekord metadanych
Pole DCWartośćJęzyk
dc.contributor.authorДмитрієв, В.С.-
dc.contributor.authorDmitriev, V.S.-
dc.coverage.temporal11-12 грудня 2013 рокуuk
dc.date.accessioned2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.available2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.issued2013-12-12-
dc.identifier.urihttp://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810-
dc.language.isoukuk
dc.publisherТернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюяuk
dc.titleОптимізація технології вакуумного нанесення омічних контактів до арсеніду галліяuk
dc.title.alternativeThe optimization of the ohmic contacts vacuum deposition technologyat gallium arsenideuk
dc.typeArticleuk
dc.coverage.placenameТернопіль, Українаuk
dc.subject.udc621.382. 2/3uk
Występuje w kolekcjach:Міжнародна науково-практична конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ (2013)

Pliki tej pozycji:
Plik Opis WielkośćFormat 
13.pdf43,69 kBAdobe PDFPrzeglądanie/Otwarcie
13.djvu16,56 kBDjVuPrzeglądanie/Otwarcie
13__COVER.png184,15 kBimage/pngPrzeglądanie/Otwarcie


Pozycje DSpace są chronione prawami autorskimi