Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : http://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810

Affichage complet
Élément Dublin CoreValeurLangue
dc.contributor.authorДмитрієв, В.С.-
dc.contributor.authorDmitriev, V.S.-
dc.coverage.temporal11-12 грудня 2013 рокуuk
dc.date.accessioned2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.available2014-10-14T10:07:11Z-
dc.date.issued2013-12-12-
dc.identifier.urihttp://elartu.tntu.edu.ua/handle/123456789/4810-
dc.language.isoukuk
dc.publisherТернопільський національний технічний університет ім. Івана Пулюяuk
dc.titleОптимізація технології вакуумного нанесення омічних контактів до арсеніду галліяuk
dc.title.alternativeThe optimization of the ohmic contacts vacuum deposition technologyat gallium arsenideuk
dc.typeArticleuk
dc.coverage.placenameТернопіль, Українаuk
dc.subject.udc621.382. 2/3uk
Collection(s) :Міжнародна науково-практична конференція молодих учених та студентів „Актуальні задачі сучасних технологій“ (2013)

Fichier(s) constituant ce document :
Fichier Description TailleFormat 
13.pdf43,69 kBAdobe PDFVoir/Ouvrir
13.djvu16,56 kBDjVuVoir/Ouvrir
13__COVER.png184,15 kBimage/pngVoir/Ouvrir


Tous les documents dans DSpace sont protégés par copyright, avec tous droits réservés.