Please use this identifier to cite or link to this item: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051

Title: Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC
Other Titles: The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface
Authors: Білоус, М.
Гермаш, Л.
Дрозденко, А.
Bilous, M.
Hermash, L.
Drozdenko, A.
Affiliation: Національний технічний університет України «КПІ»
Bibliographic description (Ukraine): Білоус М. Вплив термічного відпалу на поверхню монокристалу карбіду кремнію 6H-SiC / М. Білоус, Л. Гермаш, А. Дрозденко // Вісник ТДТУ. — Т. : ТДТУ, 2000. — Том 5. — № 2. — С. 108–111. — (Математичне моделювання. Фізика).
Bibliographic description (International): Bilous M., Hermash L., Drozdenko A. (2000) Vplyv termichnoho vidpalu na poverkhniu monokrystalu karbidu kremniiu 6H-SiC [The influence of the heat treatment process into the silicon carbide 6H-SiC surface]. Scientific Journal of TSTU (Tern.), vol. 5, no 2, pp. 108-111 [in Ukrainian].
Is part of: Вісник Тернопільського державного технічного університету, 2 (5), 2000
Scientific Journal of the Ternopil State Technical University, 2 (5), 2000
Journal/Collection: Вісник Тернопільського державного технічного університету
Issue: 2
Volume: 5
Issue Date: 27-Jun-2000
Submitted date: 24-Mei-2000
Date of entry: 13-Mei-2023
Publisher: ТДТУ
TSTU
Place of the edition/event: Тернопіль
Ternopil
UDC: 621.396
Number of pages: 4
Page range: 108-111
Start page: 108
End page: 111
Abstract: За допомогою методів Оже-електронної, рентгенофотоелектронної спектроскопії, а також електроннографічного аналізу досліджено розподіл елементів за фазами і стан на поверхні й у приповерхневому шарі монокристалів карбіду кремнію 6Н-SiС. ІІоказано характер розподілу домішок кисню і вуглецю на поверхні й у приповерхневій ділянці після термічної обробки у вакуумі 2·10-3 Па. Результати можна використати у технології виготовлення мікроприладів на основі карбіду кремнію [1].
With the help of methods the Auger - electric, rontgenophotoelectronic of spectroscopy, and also electronographic of the analysis is researched allocation of units on phases and status on a surface and in skin bed of monocrystals of silicon carbide 6Н-Si. ІІ the character of allocation of impurities of Oxygenium and Carboneum on a surface and in skin site after a heat treatment in vacuo 2*10-3 Па is rendered. The outcomes can be utilised in production process of microinstruments on a base to silicon carbide [1].
URI: http://elartu.tntu.edu.ua/handle/lib/41051
ISSN: 1727-7108
Copyright owner: © Тернопільський державний технічний університет імені Івана Пулюя, 2000
References (Ukraine): 1. Белоус М.В., Гермаш Л.П., Дрозденко О.В. Моделирование злектронных приборов и техпроцессов, обеспечение качества, надежности и радиационной стойкости приборов и аппаратуры: Сборник трудов (т. 1) международной научно-технической конференции.- М.,1998.- С.63-73.
2. Томас А., Карлсон. Фотоэлектронная и Оже-спектроскония. Л.: Машиностроение, 1981.
3. Бріггс Д., Сіх М.П. Аналіз поверхні методами Оже- і рентгенівської фотоелектронної спектроскопії. М.: Мир, 1987.
References (International): 1. Belous M.V., Hermash L.P., Drozdenko O.V. Modelirovanie zlektronnykh priborov i tekhprotsessov, obespechenie kachestva, nadezhnosti i radiatsionnoi stoikosti priborov i apparatury: Sbornik trudov (V. 1) mezhdunarodnoi nauchno-tekhnicheskoi konferentsii, M.,1998, P.63-73.
2. Tomas A., Karlson. Fotoelektronnaia i Ozhe-spektroskoniia. L., Mashinostroenie, 1981.
3. Brihhs D., Sikh M.P. Analiz poverkhni metodamy Ozhe- i renthenivskoi fotoelektronnoi spektroskopii. M., Myr, 1987.
Content type: Article
Appears in Collections:Вісник ТДТУ, 2000, том 5, № 2



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.